
Nové zařízení umožňuje kompenzovat nepatrné nerovnosti 2PP (2-Photon Polymerization) 3D tiskových substrátů během tisku. Takzvaný Substrate Tilt Frame nyní uvedla na mezinárodní trh společnost UpNano (Rakousko). Rám lze vybavit držáky pro průmyslové standardní destičky o velikosti 2 až 6 palců. Tímto způsobem se nyní stal realitou 2PP 3D tisk na celé plochy waferů až do velikosti 4 palců v kvalitě, kterou nabízejí tiskárny UpNano.
Rámeček Substrate Tilt Frame se (i zpětně) hodí k jakémukoli z řady laserových 2PP 3D tiskových systémů NanoOne od UpNano, které dokážou vytvářet struktury v rozsahu 12 řádů s nebývalou rychlostí. Další vývoj společnosti UpNano zahrnuje držák vláken, který umožňuje výrobu integrovaných optických systémů na špičce optického vlákna.
Díky schopnosti tisknout struktury v nanometrovém rozlišení i v centimetrovém rozměru nemá řada NanoOne na trhu laserových 2PP 3D tiskáren obdoby. Již byla použita v elektronice i v mikrooptice a pro biokompatibilní aplikace v buněčném a lékařském výzkumu. Ať už se však jedná o jakoukoli aplikaci, u 2PP 3D tisku přece jen záleží na velikosti: čím větší je tištěná struktura, tím více sebemenší nerovnosti tiskového materiálu ovlivní přesnost výsledného produktu. Tuto známou komplikaci nyní řeší a vyřešila společnost UpNano. Výzkumné a vývojové oddělení společnosti s provozovnami v USA a Rakousku vyvinulo naklápěcí rám, který dokáže korigovat nerovnosti v rozsahu pod µm. Rám pro naklápění substrátu lze rozšířit o různé držáky, včetně řady držáků se sklíčidly pro až 6palcové destičky. Ještě důležitější je, že celý povrch waferů až do velikosti 4 palců je nyní přístupný pro 2PP 3D tisk.